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实验室高温CVD真空管式炉

实验室高温CVD真空管式炉收藏产品

¥8900

产品描述:该款高温CVD金刚石真空管炉广泛应用于冶金,陶瓷,玻璃,机械,分析测试,半导体,科学研究等领域。...
规格:
  • 1600
  • 8900.00元
  • 20个可售
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  • 品牌名称:暂无品牌
  • 起订量:1
  • 产品编号:32963
  • 库存量:500
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产品概述:

       PT-T1200X-TP高温CVD金刚石真空管式炉是CE认证的管式炉,带有石英管(尺寸可选)和铰接式法兰。这样的配置允许容易的样品加载/卸载。30段温度控制器安装有K型热电偶。基于微处理器的自整定PID提供了出色的控制,没有超调和+/- 1°C的精度。这是在各种气体气氛下进行样品退火,扩散和烧结的出色熔炉,可达1200°C。

 

适用范围:

       该款高温CVD金刚石真空管炉广泛应用于冶金,陶瓷,玻璃,机械,分析测试,半导体,科学研究等领域。

产品特点

产品概述:

       PT-T1200X-TP高温CVD金刚石真空管式炉是CE认证的管式炉,带有石英管(尺寸可选)和铰接式法兰。这样的配置允许容易的样品加载/卸载。30段温度控制器安装有K型热电偶。基于微处理器的自整定PID提供了出色的控制,没有超调和+/- 1°C的精度。这是在各种气体气氛下进行样品退火,扩散和烧结的出色熔炉,可达1200°C。

 

适用范围:

       该款高温CVD金刚石真空管炉广泛应用于冶金,陶瓷,玻璃,机械,分析测试,半导体,科学研究等领域。

工作原理

产品概述:

       PT-T1200X-TP高温CVD金刚石真空管式炉是CE认证的管式炉,带有石英管(尺寸可选)和铰接式法兰。这样的配置允许容易的样品加载/卸载。30段温度控制器安装有K型热电偶。基于微处理器的自整定PID提供了出色的控制,没有超调和+/- 1°C的精度。这是在各种气体气氛下进行样品退火,扩散和烧结的出色熔炉,可达1200°C。

 

适用范围:

       该款高温CVD金刚石真空管炉广泛应用于冶金,陶瓷,玻璃,机械,分析测试,半导体,科学研究等领域。

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